光學(xué)膜不同于普通的保護(hù)膜或膠帶，光學(xué)膜必須厚薄均勻，表面要求無(wú)塵、少晶點(diǎn)，這對(duì)涂布技術(shù)提出了更高的要求，要求制得的膜厚薄更均勻。因此，精密涂布工藝也逐漸發(fā)展起來(lái)并不斷地完善。光學(xué)膜涂層傳統(tǒng)上采用真空蒸鍍、化學(xué)沉積、等離子聚合等方法制備，這些方法難以實(shí)現(xiàn)卷式薄膜基材的大規(guī)模生產(chǎn)；在現(xiàn)代涂布工藝中，常用的涂布方式有浸涂、輥涂、坡流式擠壓涂布、落簾涂布等。

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